超光滑基片基于電漿清洗機(jī)的應(yīng)用研究：
       電漿清洗機(jī)可以濺射去除加工變質(zhì)層，降低表面粗糙度，提高基片表面潔凈度和表面能.優(yōu)化后的參量證實， 經(jīng)等離子處理的基片比未經(jīng)電漿清洗機(jī)處理的基片鍍膜后損耗平均降低34.2ppm，并且顯示出良好的一致性。

       近年來隨著半導(dǎo)體技術(shù)和光學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，超光滑表面的應(yīng)用日益廣泛，對超光滑表面質(zhì)量的要求也越來越高。在激光陀螺制造中，反射鏡基片的加工質(zhì)量直接影響鍍膜后反射鏡的光學(xué)性能和光學(xué)元件間的光膠質(zhì)量，進(jìn)而影響陀螺的準(zhǔn)確度穩(wěn)定性和可靠性。
       目前，超光滑表面主要是通過拋光獲得，由于加工特性及環(huán)境因素，拋光后的超光滑表面吸附有大量顆粒有機(jī)質(zhì)等污染物，并且通過瀝青拋光工藝獲得的光學(xué)表面是一個“偽表面”，即存在加工變質(zhì)層，它是由流變層損傷層及水解物層等構(gòu)成的。
“偽表面”內(nèi)部有大量缺陷，活性高，在鍍膜過程中極易成為成核中心，嚴(yán)重影響了膜層的物理結(jié)構(gòu)，從而對反射鏡光學(xué)性能產(chǎn)生很大影響。
       為了描述真實表面，把表面分為：外表面層(污染物、吸附層)和內(nèi)表面層(加工變質(zhì)層)。傳統(tǒng)表面處理主要采取刷洗和超聲波清洗等，由于技術(shù)本身的原因，只能去除表面吸附的污物即外表面層，對內(nèi)表面層(拋光變質(zhì)層)沒有作用。
       電漿清洗機(jī)是近十幾年來發(fā)展起來的一項技術(shù)，由于其采用全干法、無污染處理效果好而廣泛應(yīng)用。電漿清洗機(jī)中離子能量達(dá)到數(shù)百電子伏特，不僅可以去除表面吸附微細(xì)雜質(zhì)，而且還可以對基片表面進(jìn)行濺射拋光。等離子體處理可以降低基片表面粗糙度，去除加工變質(zhì)層。
       射頻功率直接影響氣體電離的密度和離子的能量，進(jìn)而影響等離子體對基片表面作用效果。等離子體表面處理是利用高能離子作用于基片表面，通過碰撞優(yōu)先濺射掉表面松散原子層(即拋光變質(zhì)層)，又處理是在真空環(huán)境下進(jìn)行，基片表面不易被污染，從而獲得新鮮的致密的真實表面，提高了超光滑光學(xué)表面的質(zhì)量，有利于外延膜的生長。
       電漿清洗機(jī)處理前，液滴在基片表面沒有鋪展開，并且形狀不規(guī)則；經(jīng)等離子體處理后，液滴在表面鋪展開，平均鋪展面積是處理前的4.6倍，并且形狀為規(guī)則圓形。這說明基片經(jīng)等離子體處理后， 表面能得到提高而且變得均勻。
       瀝青拋光的基片表面必然存在加工變質(zhì)層，等離子體處理可以濺射去除加工變質(zhì)層，減少表面缺陷，大大提高了基片表面潔凈度和表面能，從而獲得新鮮致密均勻、平坦的超光滑表面。