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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
典型的等離子化學清洗工藝是o2中頻plasma清洗機。電漿中的氧自由基非?；顫?，很容易與烴類反映產生揮發性的物質，例如CO2、CO、H20，從而去除表面的污染物。等離子體清理主要是物理反應，又叫濺射浸蝕(SPE)或離子銑(IM)，生化學變化，清理表面不會留下氧化物，能保持被清理物體的化學純度。另一種中頻plasma清洗機的清理是表面反應機制中的物理反應和化學變化，即反映正離子浸蝕和反映電子束浸蝕，2種清理互相促進，離子轟擊破壞被清理表面，削弱化學鍵，形成原子態，容易吸收反映劑，正離子碰撞加熱被清理物，容易發生反映。
