20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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等離子體發(fā)生器工藝在半導(dǎo)體晶圓上應(yīng)用越來(lái)越普遍： 在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，幾乎每個(gè)過(guò)程都需要清洗，圓形清洗質(zhì)量對(duì)設(shè)備性能有嚴(yán)重影響。正是因?yàn)閳A形清洗是半導(dǎo)體制造過(guò)程中一個(gè)重要而頻...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-17
雙基片結(jié)構(gòu)下的射頻電漿清洗機(jī)： 使用園柱諧振腔式MPCVD裝置能通過(guò)增強(qiáng)沉積壓力來(lái)提升等離子體密度，在基片臺(tái)上實(shí)現(xiàn)金剛石膜的快速生長(zhǎng)。改變石英管位置、腔體結(jié)構(gòu)、調(diào)諧板靈活程度等方式...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-14
plasma設(shè)備常說(shuō)的基本要素跟哪些方面息息相關(guān)： 在原材料的表面處理過(guò)程中，plasma設(shè)備主要有以下基本要素：明顯增強(qiáng)侵潤(rùn)性，從而形成活性表面；清潔灰塵和油污，細(xì)致清潔和除靜電；提供...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-12
crf電漿清洗機(jī)活化后對(duì)表面是否可達(dá)到均勻性： crf電漿清洗機(jī)一次清洗范圍大，可設(shè)計(jì)成不規(guī)則形狀，非常適合用于材料表面改性。經(jīng)過(guò)電漿清洗機(jī)表面處理，原材料的表面存在很多物理、化學(xué)...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-08
行業(yè)中清洗工藝常講的粘結(jié)性、相容性和去除臟污往往跟真空等離子清洗機(jī)有關(guān)：一、crf真空等離子清洗機(jī)增加材料之間的粘結(jié)性 許多聚合物材料，如聚合物膜和纖維，很難被溶劑濕潤(rùn)，附著力低...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-07
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