CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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    深圳市誠(chéng)峰智造誠(chéng)峰crf真空等離子清洗機(jī)的清洗工藝和產(chǎn)品特性

    深圳市誠(chéng)峰智造誠(chéng)峰crf真空等離子清洗機(jī)的清洗工藝和產(chǎn)品特性:
    1、被清洗過(guò)的工件進(jìn)入真空型并加以固定,啟動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)裝置,開(kāi)始放氣,使真空室真空程度達(dá)到十帕左古的標(biāo)準(zhǔn)真空度。通常的放氣時(shí)間只需幾分鐘;
    2、將等離子清洗氣體引入真空室,并保持氣室壓力穩(wěn)定。按清潔材料不同,可以分別采用氧、氬、氫、氮、氟等氣體;
    3、在真空室中的電極與接地裝置間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電發(fā)生等離子化,形成等離子體。將處理工件完全包覆在真空室中產(chǎn)生的等離子體,開(kāi)始清洗操作,一般的清洗環(huán)節(jié)會(huì)持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)十分鐘;
    4、清洗結(jié)束后,切斷電源,用真空泵吸氣汽化污垢。

    真空等離子清洗機(jī)

    誠(chéng)峰crf真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特性:
    1.環(huán)保技術(shù):等離子體法為氣-固相干式反應(yīng),不需消耗水資源,不需添加化學(xué)試劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染;
    2.適用性:處理時(shí)不分被處理的對(duì)象的基材類型,例如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大部分聚合物可以很好地處理;
    3.溫度低:接近常溫,尤其適合聚合物材料,比電暈、火焰法保存時(shí)間長(zhǎng),表面張力高;
    4.功能強(qiáng):只涉及聚合物材料的淺表面(十-1000A),可以賦予它一種或多種功能,同時(shí)保持材料本身的特性;
    5.成本低:設(shè)備簡(jiǎn)單,操作維護(hù)容易,可連續(xù)運(yùn)行,往往用幾瓶氣就能替代幾千公斤的清洗液,所以清洗效果比濕法清洗要小得多;
    6.全過(guò)程控制工藝:通過(guò)PLC設(shè)定所有參數(shù),數(shù)據(jù)記錄,做好質(zhì)量控制;
    7.工件的幾何尺寸無(wú)限:大的或小的、簡(jiǎn)單的或復(fù)雜的,都可以處理的部件或紡織品。

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