20年專注等離子清洗機研發(fā)生產廠家
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1、用不同材料的鈍化膜芯片進行等離子清洗試驗中發(fā)現(xiàn)，研究膜層材料對等離子清洗過程的響應情況。試驗中選取不同種類的氮化硅和聚酰亞胺鈍化膜的芯片10只，經(jīng)過多次等離子清洗后，放大200倍觀察芯片表面的狀態(tài)。聚酰...
發(fā)布時間:2021-06-21
在微電子生產過程中，等離子表面處理技術已經(jīng)開始成為一種不可或缺的工藝過程。等離子表面活(化)清洗作為一種干式清洗方式，有著濕法清洗無法比擬的優(yōu)點，它在清潔材料表面的同時，還能...
發(fā)布時間:2021-06-20
智能手機發(fā)展到今天，終端廠商每推出一款產品必然都是在過去的基礎上追求精益求精。而對于模組廠來說，雖然在傳統(tǒng)制程中使用的不同工藝能夠完成同樣的作業(yè)，但我認為，通過不斷完善制程，終實...
發(fā)布時間:2021-06-19
等離子體表面處理技術作為一種新型的表面處理技術有其獨特的優(yōu)勢。等離子體技術采用氣相反應，全程無液體，反應迅速。具有高(效)率、低能耗、環(huán)保等優(yōu)點。等離子體技術廣泛應用于各種極...
發(fā)布時間:2021-06-18
在芯片封裝生產中，等離子體清洗工藝的選擇取決于后續(xù)工藝對材料表面的要求、材料表面的原有特征、化學組成以及表面污染物性質等，半導體后部生產工序中，由于指印、助焊劑、焊料、劃痕、沾污...
發(fā)布時間:2021-06-17CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
